矽晶圓 Silicon wafer 加工 / 晶圓製造 半導體是什麼? 矽晶圓(Silicon Wafer)是半導體產業最核心的基板材料,由高純度單晶矽製成,作為 IC、MEMS、感測器、功率元件、光電元件等產品的製造基礎。

矽晶圓 Silicon wafer 加工 / 晶圓製造 半導體是什麼?

矽晶圓 Silicon wafer 加工 / 晶圓製造 半導體是什麼?
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矽晶圓加工(Silicon Wafer Machining)

一、什麼是矽晶圓加工?

矽晶圓(Silicon Wafer)是半導體產業最核心的基板材料,由高純度單晶矽製成,作為 IC、MEMS、感測器、功率元件、光電元件等產品的製造基礎。

矽晶圓加工主要可分為:

1. 晶圓製造(Wafer Manufacturing)

從多晶矽開始:

  • 多晶矽提煉(Polysilicon Refining)
  • 單晶拉晶(Crystal Growth)
  • 晶棒成長(Ingot Manufacturing)
  • 切片(Wafer Slicing)
  • 研磨(Grinding)
  • 拋光(Polishing)
  • 清洗(Cleaning)
  • 檢測(Inspection)

形成最終半導體級晶圓。


二、矽晶圓製造流程

STEP 1:單晶拉晶(CZ 或 FZ)

常見方式:

CZ法(Czochralski Process)

全球最普遍

適合:

  • 8吋晶圓
  • 12吋晶圓

晶體純度:

99.999999999%以上

(11N~12N)

FZ法(Float Zone)

適用:

  • 功率半導體
  • IGBT
  • SiC基板

具有:

  • 更低氧含量
  • 更高電阻率

STEP 2:晶棒加工(Ingot Processing)

形成圓柱狀晶棒後:

加工項目:

  • 外徑研磨
  • 平面定位(Flat)
  • Notch加工
  • 尺寸校正

尺寸:

  • 150 mm(6吋)
  • 200 mm(8吋)
  • 300 mm(12吋)

STEP 3:晶圓切割(Wafer Slicing)

使用:

  • 金剛石線鋸(Diamond Wire Saw)

切成:

厚度約:

  • 725 μm(8吋)
  • 775 μm(12吋)

要求:

  • 厚度均勻
  • 低翹曲
  • 低損傷層

STEP 4:邊緣研磨(Edge Grinding)

目的:

避免後續製程破裂。

形成:

  • Rounded Edge
  • Bevel Edge

提高機械強度。


STEP 5:雙面研磨(Double Side Grinding)

控制:

  • 平坦度(Flatness)
  • 厚度(Thickness)

精度可達:

±1 μm以下


STEP 6:化學機械研磨(CMP)

CMP(Chemical Mechanical Polishing)

是晶圓加工最重要製程之一。

利用:

  • 化學蝕刻
  • 奈米磨粒

達到超鏡面效果。

表面粗糙度:

Ra < 0.2 nm


三、半導體廠中的晶圓加工

晶圓進入晶圓廠後:

主要流程:

前段製程(Front-End)

  • 氧化(Oxidation)
  • 光刻(Photolithography)
  • 蝕刻(Etching)
  • 離子佈植(Ion Implantation)
  • 薄膜沉積(PVD)
  • 薄膜沉積(CVD)
  • CMP平坦化

形成電晶體結構。


後段製程(Back-End)

  • 金屬配線
  • 保護層沉積
  • 晶圓測試
  • 晶圓切割(Dicing)
  • 封裝
  • 最終測試

四、矽晶圓 CNC 精密加工應用

雖然晶圓本身不採用傳統 CNC 加工,但半導體設備大量使用 CNC 精密零件製造:

應用設備:

  • 曝光機(Lithography)
  • 蝕刻機(Etcher)
  • CVD設備
  • PVD設備
  • CMP設備
  • 檢測設備

常見零件:

  • 真空腔體
  • 晶圓載台
  • End Effector
  • Robot Arm
  • 真空吸盤
  • 精密治具
  • Gas Distribution Plate

材料:

  • 鋁合金 6061 / 7075
  • SUS304
  • SUS316L
  • PEEK
  • POM
  • PTFE
  • 氧化鋁陶瓷
  • 氧化鋯陶瓷

五、矽晶圓加工品質指標

項目指標
TTV總厚度變異
Bow彎曲度
Warp翹曲度
Flatness平坦度
Roughness表面粗糙度
Particle顆粒污染
Oxygen Content氧含量
Resistivity電阻率

先進製程要求:

  • 奈米級平坦度
  • 原子級表面控制
  • 超低污染

六、主要應用產業

半導體

  • CPU
  • GPU
  • AI晶片
  • 記憶體

功率電子

  • IGBT
  • MOSFET
  • SiC Power Device

光電產業

  • CMOS Sensor
  • CCD
  • Micro LED

MEMS產業

  • 加速度感測器
  • 陀螺儀
  • 壓力感測器

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