ステンレス鋼表面処理コードの完全な説明:PVD(物理蒸着)x半導体装置、CNC精密部品、工業用外観部品、ハイエンド機器製造に適していますx処理方法-真空コーティング

ステンレス鋼表面処理コードの完全な説明:PVD(物理蒸着)x半導体装置、CNC精密部品、工業用外観部品、ハイエンド機器製造に適していますx処理方法-真空コーティング

不鏽鋼表面處理代號完整解析 — PVD(日本語)

1. PVDとは?(表面処理の本質)

**PVD(Physical Vapor Deposition:物理気相成長法)**とは、真空環境下で金属またはセラミック材料を蒸発またはスパッタリングにより気化し、不鏽鋼基材の表面に堆積させることで、高密着・超薄膜・高性能な機能性コーティング層を形成する真空コーティング技術です。

📌 PVDは「コーティング」であり、電気めっきや塗装ではありません
📌 膜厚は非常に薄く(約 1~5μm)、寸法精度への影響はほぼありません


2. PVDで使用される材料

1️⃣ 基材(Substrate)

PVDは以下の不鏽鋼材料に適用可能です:

不鏽鋼材質特徴
SUS304汎用型、耐食性良好
SUS316 / 316L高耐食性(半導体・医療用途)
SUS420 / 440焼入れ可能、高強度
SUS303被削性良好(密着性に注意)

2️⃣ PVDコーティング材料(機能層)

PVDコード材質主な特性
TiN窒化チタン金色高硬度・耐摩耗
CrN窒化クロム銀灰色耐食性・低摩擦
ZrN窒化ジルコニウムシャンパンゴールド装飾性+耐食性
TiCN炭窒化チタン濃灰色極めて高い耐摩耗性
DLCダイヤモンドライクカーボン黒色超低摩擦
AlTiNアルミチタン窒化物黒紫色高温安定性

📌 半導体装置で一般的:CrN / TiN / DLC
📌 装飾用途・装置外装:TiN / ZrN


3. PVD製程フロー(工業標準)

🔧 不鏽鋼PVD製程

CNC加工完了
↓
表面前処理(研磨/鏡面/HL/マット)
↓
超音波洗浄(脱脂・微粒子除去)
↓
真空チャンバー装填
↓
真空引き(10⁻³~10⁻⁶ Torr)
↓
イオン洗浄(Arプラズマ)
↓
PVD成膜(アーク/スパッタ)
↓
冷却 → 取り出し → 検査

📌 前処理品質がPVD成功の鍵
📌 表面欠陥は成膜後にそのまま再現されます


4. PVD表面特性(技術データ)

  • 膜厚:1~5μm
  • 硬度:HV 1800~3500
  • 密着性:非常に高い
  • 摩擦係数:0.1~0.4
  • 耐熱性:約400~800℃
  • 寸法影響:ほぼなし

5. PVDの用途

  • 真空チャンバー部品
  • 半導体装置機構部品
  • 自動化スライド部品
  • CNCツールホルダー
  • 装置外装・操作パネル

✅ まとめ

PVDは、不鏽鋼に高い機能性・耐久性・美観を同時に付与する、半導体・高精度装置向けの重要な表面処理技術です。

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